Alvo de titânio

Os alvos de titânio são matérias-primas essenciais usadas no processo de pulverização catódica de deposição física de vapor (PVD). Partículas de alta energia bombardeiam suas superfícies, pulverizando átomos ou íons de titânio, formando um filme de titânio ou composto de titânio de alta pureza e alto desempenho no substrato.

▸Principais recursos e especificações técnicas:
1. Pureza ultra-alta: Disponíveis em vários níveis de pureza, de 99,99% (4N) a 99,9999% (6N), esses alvos atendem aos rigorosos requisitos de impurezas de diversas aplicações e garantem excelente condutividade, resistência à corrosão e biocompatibilidade.
2. Tamanho e peso personalizáveis: A produção totalmente personalizada é suportada. O tamanho e o peso máximos podem ser projetados e fabricados para atender às câmaras específicas dos equipamentos do cliente, aos requisitos do processo e à potência de pulverização catódica, proporcionando máxima flexibilidade do processo.
3. Embalagem Profissional: Embalados com segurança em caixas ou paletes de madeira, esses alvos de alto valor e alta precisão são protegidos contra danos, contaminação e deformação durante o transporte e armazenamento, atendendo aos padrões de transporte industrial.

▸Principais áreas de aplicação:
1. Telas LCD (telas de cristal líquido): Usado para depositar eletrodos (como porta, fonte/dreno) ou camadas de barreira em matrizes de transistores de filme fino (TFT), o que é crucial para exibir desempenho e rendimento.
2. Dispositivos Médicos e Implantes: Usado para depositar filmes finos de titânio ou nitreto de titânio de alta pureza nas superfícies de dispositivos médicos, como articulações artificiais, parafusos ósseos, implantes dentários e stents cardiovasculares, melhorando significativamente a biocompatibilidade dos produtos, resistência ao desgaste, resistência à corrosão e osseointegração.